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真空度對真空鍍膜的影響

發布時間:2021-07-03   點擊次數:1112次

    各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子,以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進,大大擴大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質,都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜,而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。

 

    以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。

 

簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法即為真空鍍膜。

 

     真空鍍膜時,真空度一般在10的負3次方左右,真空度大小是真空鍍膜時必須嚴格要求的指標之一,它對鍍膜產品的顏色、耐磨性、牢固度有直接的關系,通常鍍膜時加少許氣體,還有通過對電弧電源的控制增加母材在真空室的離化率,還可通過磁場控制電弧等以改變產品的外觀和內在品質。

 

    主要還是對鍍膜工藝的影響,無論什么鍍膜方式,真空度越高亦代表爐內所含的雜氣原子越少,這樣鍍膜膜層成分就更趨近于你想要的比例,簡單的說就是純度及結晶狀態更可控。

    同時,對于鍍膜來說,加熱基本是必須的,較高的真空度可以防止基材表面氧化或氮化,對結合力有很大的幫助。

 

    真空如果太低的話鍍出來的產品會發黑,時間一長還會發黃,一般情況下抽到5.0-2就可以了,如果產品要求很高的話 就要抽到2.0-2了,當然產品要求不高的話抽到-2也可以蒸發的,我所說的說是蒸發鍍!

 

真空鍍膜--可見真空度對真空鍍膜的影響

    真空度的高低就決定了你產品的合格與否,如果是裝飾性鍍膜,真空度的差別,直接導致的是顏色不一樣

    如果是功能性薄膜,那么就是你做出的產品附著力,光學性能等等的各項指標出現偏差。

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